Fotovoltaico: Mitsubishi e Sharp portano l’efficienza del Si policristallino al 18%
peppe | luglio 2009
Mitsubishi Electric Corp e Sharp, adottando due distinte tecniche di lavorazione del silicio policristallino hanno di recente annunciato di aver raggiunto efficienze pari al 18% su celle di dimensioni rispettivamente di 15x15cm e 10x10cm.
In entrambi i casi lo spessore del silicio utilizzato è pari a 100 μm.
Mitsubishi ha annunciato il risultato all’ultima edizione del Japan’s New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO), spiegando che la tecnica utilizzata è stata quella della texture a nido d’ape, che ha il pregio di ridurre la riflettanza della cella solare.
Sharp invece ha ottenuto risultati analoghi applicando la passivazione con silicio drogato e alluminio evaporato della superficie inferiore della cella solare.
Anche Kyocera è prossima a risultati del genere, dato che ha realizzato celle di 15x15cm e con spessori di 100μm che hanno raggiunto efficienze del 17.1% con una tecnica che riduce il numero di elettrodi delle celle.
Applicando la passivazione, Kyocera sostiene di poter raggiungere a breve efficienze paragonabili a quelle ottenute dai concorrenti.
